Комплексные решения поставки электронных компонентов

Лазерные кристаллы

Буклет ОЭС Спецпоставка, «Программа поставок»скачать.

Компания «ОЭС Спецпоставка» осуществляет поставки оптики:

  • Лазерные кристаллы. Производители: Altechna, Thorlabs

LiSAF, LiSGaF and LiCAF Crystals

LiSAF, LiSGaF and LiCAF Crystals

   
Концентарция легирующего компонента 0.5 - 5.5%
Диаметр 1 мм - 25.4 мм
Длина 1 мм - 180 мм
Допуск по размерам +/-0.2 мм
Ориентация <2 град (ось стержня по отношению к оси a кристалла)
Световой диаметр >95%
Качество обработки поверхности 10/5 различных неровностей
Плоскостность λ/10 при 633 нм
Отклонение от параллельности < 10 дуговых секунд
Перпендикулярность <3 дуговых минут
Длина волны излучения лазера Cr:LiSAF - 846 нм
  Cr:LiCAF - 763 нм
  Cr:LiSGaF - 835 нм
Пороговые повреждения, вызываемые лазером более 15 Дж/см2 TEM00, 10 нм, 10 Гц
Противоотражательное покрытие для широкого диапазона длин волн  

Мы предлагаем кристаллы LiSAF, LiSGaF и LiCAF (чистые и легированные хромом), выращенные по методу Чохральского. Использование высококачественного начального сырья для выращивания кристаллов и измерение концентрации легирующего компонента с использование абсорбционной спектроскопии позволяет получить кристаллы, точно соответствующие требованиям заказчика. Кристаллы Cr3+:LiSrAlF6 (Cr:LiSAF) - типичные кольквириитные кристаллы, легированные хромом.

Они являются "электро-колебательной" средой для лазеров, могут быть настроены в ближнем ИК-диапазоне (~780 нм до 1010 нм) и способны поддерживать импульсы, длительностью до десятков фемтосекунд. Было показано, что они позволяют генерировать импульсы длительностью 24 фс. По сравнению с титан-сапфрировыми кристаллами, такие кристаллы позволяют значительно снизить стоимость лазера, т.к. используют красный источник для накачки вместо зеленого. Кроме того они могут работать с низкими мощностями накачки, что позволяет использовать их при диодной накачке.

Сделайте заказ

Для данного продукта каталог отсутствует. Пожалуйста, свяжитесь с нами Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра..

Кристаллы калиево-гадолиниевого вольфрамата, легированные неодимом (Nd:KGW)

Кристаллы калиево-гадолиниевого вольфрамата, легированные неодимом (Nd:KGW)

   
Ориентация [010]
Концентрация легирующего вещества 3.0– 10.0 атм. %
Допуск по длине ±0,1 мм
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Лазеры на кристаллах Nd:KGW оказываются в 3-5 раз эффективнее,чем на кристаллах Nd:YAG. Кристаллы Nd:KGW - наилучший выбор, если необходимо обеспечить эффективную работу лазера при низких энергиях накачки (0.5 - 1 Дж).

Покрытие Размеры, мм Материал ID Изделия
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-10
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x3 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-11
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x4 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-12
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x5 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-13
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x1 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-10
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-11
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x3 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-12
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x5 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-13
AR/AR при 1067 нм Ø3x60 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-01
AR/AR при 1067 нм Ø3x60 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-01
AR/AR при 1067 нм Ø4x80 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-02
AR/AR при 1067 нм Ø4x80 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-02
AR/AR при 1067 нм Ø5x90 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-03
AR/AR при 1067 нм Ø5x90 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-03
AR/AR при 1067 нм Ø6x110 Nd(3%):KGW 3-ND30KGW-04
AR/AR при 1067 нм Ø6x110 Nd(5%):KGW 3-ND50KGW-04

Кристаллы алюмо-иттриевый граната, легированного неодимом (Nd:YAG)

Кристаллы алюмо-иттриевый граната, легированного неодимом (Nd:YAG)

   
Ориентация [111]
Концентрация легирующего вещества 0,5 - 1,1 атм. %
Коэффициент затухания >28 дБ
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Допуск по длине, мм ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Наша компания поставляет кристаллы Nd:YAG, обладающие высокой оптической однородностью, высоким значением порогового напряжения, прошедшие высокоточную обработку и обеспечивающие надежную работу оборудования. Мы также поставляем периодичные концентрированные кристаллы.

Кристаллы Nd:YAG можно разделить на три области. Первая из них длиной 5-7 мм содержит низкую концентрацию неодима (0,3-0,4%), средняя часть содержит 1-1,3 мольных % неодима, ее длина составляет 10-12 мм, а третья часть точно такая же, как и первая.

Покрытие Размеры, мм Материал ID Изделия
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x3 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-15
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x4 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-16
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x5 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-17
HR при 1064+HT при 808/AR при 1064 нм 3x3x2 Nd(0,6%):YAG 3-ND11YAG-10
HR при 1064+HT при 808/AR при 1064 нм 3x3x4 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-12
HR при 1064+HT при 808/AR при 1064 нм 3x3x5 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-13
AR/AR при 1064 нм Ø3x60 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-01
AR/AR при 1064 нм Ø3x60 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-01
AR/AR при 1064 нм Ø4x80 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-02
AR/AR при 1064 нм Ø4x80 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-02
AR/AR при 1064 нм Ø5x90 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-03
AR/AR при 1064 нм Ø5x90 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-03
AR/AR при 1064 нм Ø6x110 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-04
AR/AR при 1064 нм Ø6x110 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-04
AR/AR при 1064 нм Ø7x125 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-05
AR/AR при 1064 нм Ø7x125 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-05
AR/AR при 1064 нм Ø8x130 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-06
AR/AR при 1064 нм Ø8x130 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-06
AR/AR при 1064 нм Ø9x150 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-07
AR/AR при 1064 нм Ø9x150 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-07
AR/AR при 1064 нм Ø10x160 Nd(0,6%):YAG 3-ND06YAG-08
AR/AR при 1064 нм Ø10x160 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-08
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-14
HR при 1064+HT при 808/AR при 1064 нм 3x3x3 Nd(1,1%):YAG 3-ND11YAG-11

Кристаллы иттриевого-литиевого фторида, легированные неодимом (Nd:YLF)

Кристаллы иттриевого-литиевого фторида, легированные неодимом (Nd:YLF)

   
Концентрация легирующего вещества 0.4 – 2.0 атм. %
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Коэффициент затухания >25 дБ
Допуск по длине ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Искажение фронта проходящей волны до λ/8 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Кристаллы Nd:YLF (или более точно Nd:LiYF4) испускают волны длиной 1053, 1047, 1313, 1324, и 1370 нм. Они являются альтернативой кристаллам Nd:YAG. По сравнению с ними эти кристаллы обеспечивают более высокую энергию импульсов при малой частоте повторения (<2 кГц). Кроме того, стоит отметить и другие отличия такие, как слабое проявление термического эффекта линзы, относительно широкую полосу свечения и естественно-поляризованные осцилляции. Компания Altechna поставляет кристаллы, специально отобранные таким образом, чтобы неоднородность в апертуре была мала. Для заказа доступны кристаллы со следующими характеристиками: диаметр 10 мм, длина 120 мм, неоднородность ~ 0.1-0.3 * 10-5.

Покрытие Размеры, мм Материал ID Изделия
AR/AR при (790-810)&(1047-1053) нм 4 x 4 x 12 Nd(1,1%):YLF 3-ND11YLF-4412
AR/AR при (790-810)&(1047-1053) нм 6 x 6 x 70 Nd(1,1%):YLF 3-ND11YLF-6670

Кристаллы иттриевого ванадата, легированного неодимом (Nd:YVO4)

Кристаллы иттриевого ванадата, легированного неодимом (Nd:YVO4)

   
Ориентация [,100,]
Концентрация легирующего вещества 0.5 – 3.0 атм. %
Допуск по размерам +0/-0.1 мм
Допуск по длине ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Кристаллы ванадата иттрия, легированные неодимом, - один из наиболее перспективных материалов для твердотельных лазеров с диодной накачкой. Они обладают высоким пороговым повреждением, вызываемым лазером, а также хорошими оптическими и механическими свойствами. Благодаря большой площади поверхности, с которой происходит вынужденное излучение, и хорошему поглощению, эти кристаллы прекрасно подходят для использования в лазерах-указках.

На основе Nd: YVO4можно создать инфракрасные зеленые и синие лазеры при минимальном изменении конструкции. Широкая полоса поглощения (центрированная относительно 807 нм) и выгодные механические свойства позволяют использовать кристаллы Nd:YVO4в компактных, высоко эффективных и высоко-энергетических лазерах с диодной накачкой. Благодаря естественному свойству двойного лучепреломления, на выходе повышается поляризация для длин волн в 1064,3 и 1342 нм.

Покрытие Размеры, мм Материал ID Изделия
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x2 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-03
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x1 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-05
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x1 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-04
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x0,5 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-04
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-06
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-05
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x1 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-05
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x1 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-01
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x3 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-07
HR при 1064&532+HT при 808/AR при1064&532 нм 3x3x1 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-01
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x3 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-06
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x2 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-06
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x2 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-02
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x4 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-08
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x2 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-02
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x1 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-02
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x4 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-04
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x3 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-03
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x3 Nd(2%):YVO4 3-ND20YVO-03
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x6 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-05
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x4 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-01
AR/AR при 1064&808 нм 3x3x10 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-06
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x4 Nd(1%):YVO4 3-ND10YVO-04
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x6 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-02
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x10 Nd(0,5%):YVO4 3-ND05YVO-03
HR при 1064&532+HT при 808/AR при 1064&532 нм 3x3x0,5 Nd(3%):YVO4 3-ND30YVO-01

Титан-сапфировые кристаллы

Титан-сапфировые кристаллы

   
Ориентация Оптическая ось C перпендикулярна оси стержня
Поглощение при длине кристалла 532 нм >90 %
Допуск по размерам +0/-0.1 мм
Допуск по длине ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Искажение фронта проходящей волны <λ/4 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <30 дуговых секунд
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Сапфировые кристаллы, легированные титаном (Al2O3:Ti3+), достаточно часто используются для генерации сверхкоротких импульсов в твердотельных лазерах или лазерах, с настраиваемой длиной волны. Эти кристаллы сочетают в себе превосходные теплофизические и оптические свойства и самый широкий диапазон генерации лазерного излучения среди остальных материалов. Безусловная стабильность, короткое время жизни и способность к генерации лазерного излучения внутри всего диапазона от 660 до 1050 нм позволяют применять Титан-Сапфировые кристаллы в различных отраслях, начиная от обработки материалов, заканчивая многофотонной и разрешенной во времени спектроскопии. Последние исследования показали, что диодная накачка с использованием голубых диодов (445 нм) так же может использоваться для создания Титан-Сапфировых осцилляторов. Ожидается, что это даст толчок к развитию следующего поколения Титан-Сапфировых кристаллов.

Компания Altechna предлагает Титан-Сапфировые кристаллы, точным образом вырезанные из буля большого монокристалла. Кристаллы выращиваются с применением метода Чохральского, который включает в себя следующие шаги:

  • плавление Al2O3с низкой концентрацией Титана;
  • помещение зерна кристалла в расплав;
  • кристалл изымается из расплава в строго контролируемую среду;
  • охлаждение буля кристалла в строго определенном термическом режиме;
  • температурная обработка буля в разряженной атмосфере, что позволяет достичь необходимого соотношение между количеством ионов Ti3+и Ti4+. Такис образом удается достичь коэффициента добротности в 150 и более.

Области применения

  • Лазеры со сверхкороткими импульсами;
  • Осцилляторы с высокой частотой повторения;
  • ЛЧМ-импульсные лазерные усилители;
  • Многовводные усилители;
  • Лазеры с настраиеваемой длиной волны;
  • Импульсная генерация ренгтгеновского излучения.
Размеры апертуры, мм Торцевая поверхность Длина, мм Покрытие Противоотражательное покрытие Коэффициент добротности ID Изделия
Ø6 Под углом Брюстера 20 Отсутствует Отсутствует >180 3-TS-1-0620
Ø6 Под углом Брюстера 15 Отсутствует Отсутствует >150 3-TS-1-0615
6x6 Под углом Брюстера 15 Отсутствует Отсутствует >150 3-TS-1-6615
6x6 Под прямым углом 15 Противоотражательное покрытие (R<1%) при 532нм + (R<0.3%) 780-820 нм >150 3-TS-0-6615
Ø6 Под прямым углом 20 Противоотражательное покрытие (R<1%) при 532нм + (R<0.3%) 780-820 нм >180 3-TS-0-0620
6x6 Под углом Брюстера 20 Отсутствует Отсутствует >180 3-TS-1-6620
6x6 Под прямым углом 20 Противоотражательное покрытие (R<1%) при 532нм + (R<0.3%) 780-820 нм >180 3-TS-0-6620
Ø6 Под прямым углом 15 Противоотражательное покрытие (R<1%) при 532нм + (R<0.3%) 780-820 нм >150 3-TS-0-0615

Кристаллы иттрий-лития фторида, легированного туллием

Кристаллы иттрий-лития фторида, легированного туллием

   
Допуск по концентрации легирующего вещества +/-0,1%
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <5 дуговых минут
Световой диаметр 95%
Качество обработки поверхности 10 - 5 различных неровностей
Плоскостность поверхности λ/10 при 633 нм
Искажение волнового фронта < 7мм в диаметре: λ/10 при 633 нм; >/=7мм в диаметре: λ/8 при 633 нм
Пороговое повреждение, вызываемое лазером более 15Дж/см2 TEM00, 10 нм, 10 Гц

Чистые кристаллы иттрий-лития фторида являются прозрачными в диапазоне 0,12-7,5 мкм и устойчивы к воздействию света, излучения и тепла. Для этих кристаллов характерны низкие значения коэффициентов нелинейного преломления и малые значения термо-оптических констант. Именно поэтому их можно применять в различных сферах: исследовательской и образовательной деятельности, на производстве, в оптике (в т.ч. опphotonicsтоволоконной), в лазерах и в телекоммуникации.

Для данного продукта каталог отсутствует. Пожалуйста, свяжитесь с нами Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра..

Кристаллы фторида кальция, легированные иттербием (Yb:CaF2)

Кристаллы фторида кальция, легированные иттербием (Yb:CaF2)

   
Концентрация легирующего вещества 1 – 10 %
Допуск по длине ±0,1 мм
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Благодаря низкому квантовому дефекту и относительно длинному времени высвечивания, кристаллы Yb:CaF2 часто используются в высоко-энергетических системах с диодной накачкой и лазерных усилителях с высокой эффективностью преобразования типа свет-свет. С этой точки зрения, кристаллы Yb:YAG наиболее важны и хорошо изучены. Только недавно всеобщее внимание стали привлекать кристаллы Yb:CaF2, которые стали использоваться в фемтосекундных лазерах с диодной накачкой и лазерных усилителях.

Фториды щелочноземельных металлов довольно просто вырастить с использованием стандартного метода Чохральского или Бриджмана. Они оказываются прозрачными в широком диапазоне длин волн, их поведение при воздействии интенсивного лазерного излучения является низко дисперсионным с ограниченным набором нелинейных эффектов. Недавно было показано, что диаметр кристалла Yb:CaF2 может достигать 200 мм, что позволяет использовать его при работе с высоко-энергетическими коротко-импульсными лазерами с апертурой порядка нескольких сантиметров.

Покрытие Размеры, мм Материал ID Изделия
Противоотр./ Противоотр. при 1030 + 940 нм 6 x 6 x 5 Yb(3%):CaF2 3-YB03CAF-01
Противоотр./ Противоотр. при 1030 + 940 нм 6 x 6 x 5 Yb(5%):CaF2 3-YB05CAF-01

Кристаллы калиево-гадолиниевого и калиево-иттриевого вольфрамата, легированные иттербием (Yb:KGW и Yb:KYW)

Кристаллы калиево-гадолиниевого и калиево-иттриевого вольфрамата, легированные иттербием (Yb:KGW и Yb:KYW)

   
Материал Yb:KGW/Yb:KYW
Концентрация легирующего вещества 0.5 – 5.0 атм. % для Yb:KGW
0.5 – 10.0 атм. % для Yb:KYW
Ориентация b-cut: Ось - Nm параллельна входным и выходным граням.
Доступны и другие варианты
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Допуск по длине ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Кристаллы Yb:KGW и Yb:KYW используются лазерной технике для генерации сверхкоротких высоко-энергетических импульсов. Кристаллы Yb:KGW могут использоваться как усилители сверхкоротких импульсов и являются одним из лучших материалов для высоко-энергетических лазерах на тонких дисках.

Широкая полоса испускания кристаллов Yb:KYW позволяет настраивать излучение лазера в диапазоне от 1020 до 1060 нм для генерации фемтосекундных импульсов (менее 70 фс). Повышенная емкость, широкий спектр поглощения при 980 нм и сильное поглощение излучения накачки в небольшой области кристалла позволяют эффективно использовать эти кристаллы в лазерах с диодной накачкой.

По сравнению с кристаллами YAG или стеклами, легированными Yb3+, кристаллы KYW и KGW обладают большим сечением поглощения, что снижает минимальную интенсивность накачки, необходимую для обеспечения необходимой прозрачности в квази-двухуровневой иттерибиевой системе.

Покрытие Размеры, мм Материал Торцевая поверхность ID Изделия
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 2 Yb(1%):KGW Под прямым углом 3-YB1KGW-01
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 3 Yb(1%):KGW Под прямым углом 3-YB1KGW-02
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 5 Yb(1%):KGW Под прямым углом 3-YB1KGW-03
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 1 Yb(3%):KGW Под прямым углом 3-YB3KGW-01
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 3 Yb(3%):KGW Под прямым углом 3-YB3KGW-02
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 5 Yb(3%):KGW Под прямым углом 3-YB3KGW-03
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 1 Yb(5%):KGW Под прямым углом 3-YB5KGW-01
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 2 Yb(5%):KGW Под прямым углом 3-YB5KGW-02
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 3 Yb(5%):KGW Под прямым углом 3-YB5KGW-03
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 1 Yb(10%):KYW Под прямым углом 3-YB10KYW-01
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 2 Yb(10%):KYW Под прямым углом 3-YB10KYW-02
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 3 Yb(10%):KYW Под прямым углом 3-YB10KYW-03
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 1 Yb(20%):KYW Под прямым углом 3-YB20KYW-01
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 2 Yb(20%):KYW Под прямым углом 3-YB20KYW-02
Ar/AR при 980-1080 5 x 5 x 3 Yb(20%):KYW Под прямым углом 3-YB20KYW-03
- 5 x 5 x 2 Yb(1%):KGW Под углом Брюстера 3-YB1KGW-04
- 5 x 5 x 3 Yb(1%):KGW Под углом Брюстера 3-YB1KGW-05
- 5 x 5 x 5 Yb(1%):KGW Под углом Брюстера 3-YB1KGW-06
- 5 x 5 x 1 Yb(3%):KGW Под углом Брюстера 3-YB3KGW-04
- 5 x 5 x 3 Yb(3%):KGW Под углом Брюстера 3-YB3KGW-05
- 5 x 5 x 5 Yb(3%):KGW Под углом Брюстера 3-YB3KGW-06
- 5 x 5 x 1 Yb(5%):KGW Под углом Брюстера 3-YB5KGW-04
- 5 x 5 x 2 Yb(5%):KGW Под углом Брюстера 3-YB5KGW-05
- 5 x 5 x 3 Yb(5%):KGW Под углом Брюстера 3-YB5KGW-06
- 5 x 5 x 1 Yb(10%):KYW Под углом Брюстера 3-YB10KYW-04
- 5 x 5 x 2 Yb(10%):KYW Под углом Брюстера 3-YB10KYW-05
- 5 x 5 x 3 Yb(10%):KYW Под углом Брюстера 3-YB10KYW-06
- 5 x 5 x 1 Yb(20%):KYW Под углом Брюстера 3-YB20KYW-04
- 5 x 5 x 2 Yb(20%):KYW Под углом Брюстера 3-YB20KYW-05
- 5 x 5 x 3 Yb(20%):KYW Под углом Брюстера 3-YB20KYW-06

Кристаллы фторида иттрия-лития, легированные иттербием (Yb:LiYF4)

Кристаллы фторида иттрия-лития, легированные иттербием (Yb:LiYF4)

   
Строение кристалла Тетрагональное
Точечная группа I41/a
Параметры решетки а = 5,164 Å, c = 10,741 Å
Термическое расширение 4×10-6/ ºC
Теплопроводность 4,3–6 Вт/мК
Плотность 3,95 г/см³
Твердость по Моссу 5
Температура плавления 825 ºC
Диапазон пропускания 0.2-5 мкм

Материалы, легированные иттербием, обладают самой высокой квантовой эффективностью (>90%) среди коммерческих продуктов для лазеров. Кристаллы Yb:LiYF4 (Yb:YLF) обладают более широким спектром излучения по сравнению с Yb:YAG. Это свойство наиболее важно для генерации и усиления сверхкоротких импульсов. Кристалл-матрица YLF обладает более высокой теплопроводностью, чем стекло, что делает эффект появления тепловой линзы пренебрежимо малым. Эти кристаллы также можно легировать ионами иттербия до высоких концентраций.

Сделайте заказ

Для данного продукта каталог отсутствует. Пожалуйста, свяжитесь с нами Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра..

Кристаллы алюмо-иттриевого граната, легированные иттербием (Yb:YAG)

Кристаллы алюмо-иттриевого граната, легированные иттербием (Yb:YAG)

   
Концентрация легирующего вещества 0.2 – 25 атм. %
Ориентация [111]
Коэффициент затухания >28 дБ
Допуск по размерам +0/-0.05 мм
Допуск по длине ±0,1 мм
Качество обработки поверхности 10-5 S-D
Плоскостность поверхности <λ/10 при 632.8 нм
Отклонение от параллельности <10 дуговых секунд
Перпендикулярность <10 дуговых минут
Защитные фаски <0.1 мм x 45°

Данные кристаллы являются подходящими для лазеров с диодной накачкой по сравнению с традиционными кристаллами, легированными неодием. Их накачка может производиться при выходной мощности лазера в 0,94 мкм. По сравнению с более распространенными кристаллами Nd:YAG, кристаллы Yb:YAG обладают гораздо более широкой полосой поглощения, что позволяет снизить требования по теплофизическим свойствам, установленные для диодных лазеров. Кроме того они характеризуются более длительным временем жизни верхнего состояния и в 3-4 раза более низкой тепловой нагрузкой на единицу мощности накачки. Ожидается, что кристаллы Yb:YAG скоро заменят кристаллы Nd:YAG в высоко-энергетических лазерах с диодной накачкой и в других областях.

Покрытие Размеры, мм Материал Торцевая поверхность ID Изделия
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x2 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-01
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x3 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-02
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x5 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-03
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x1 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-01
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x2 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-02
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x3 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-03
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x0,5 Yb(20%):YAG Под прямым углом 3-YB20YAG-01
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x1 Yb(20%):YAG Right-angle cut 3-YB20YAG-02
AR/AR при 940+1030 нм 5x5x2 Yb(20%):YAG Под прямым углом 3-YB20YAG-03
- 5x5x2 Yb(5%):YAG Под углом Брюстера 3-YB05YAG-07
- 5x5x3 Yb(5%):YAG Под углом Брюстера 3-YB05YAG-08
- 5x5x5 Yb(5%):YAG Под углом Брюстера 3-YB05YAG-09
- 5x5x1 Yb(10%):YAG Под углом Брюстера 3-YB10YAG-07
- 5x5x2 Yb(10%):YAG Под углом Брюстера 3-YB10YAG-08
- 5x5x3 Yb(10%):YAG Под углом Брюстера 3-YB10YAG-09
- 5x5x1 Yb(20%):YAG Под углом Брюстера 3-YB20YAG-07
- 5x5x2 Yb(20%):YAG Под углом Брюстера 3-YB20YAG-08
- 5x5x3 Yb(20%):YAG Под углом Брюстера 3-YB20YAG-09
HR@1030+HT@940/AR@1030 nm 5x5x2 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-04
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x3 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-05
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x5 Yb(5%):YAG Под прямым углом 3-YB05YAG-06
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x1 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-04
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x2 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-05
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x3 Yb(10%):YAG Под прямым углом 3-YB10YAG-06
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x0,5 Yb(20%):YAG Под прямым углом 3-YB20YAG-04
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x1 Yb(20%):YAG Под прямым углом 3-YB20YAG-05
HR при 1030+HT при 940/AR при 1030 нм 5x5x2 Yb(20%):YAG Под прямым углом 3-YB20YAG-06

"ОЭС Спецпоставка" за годы работы стала крупным поставщиком электронного оборудования, который доставляет заказы "ОЭС Спецпоставка". Профессионализм наших сотрудников позволяет решать разномасштабные задачи в работе как с крупными серийными производствами, так и с опытными конструкторскими бюро. Сотрудничая с нами, клиент получает гарантии и актуальную информацию на протяжении всего процесса поставки. Лазерные кристаллы, заказанные Вами, будут доставлены в срок.

Altechna (Литва) — с 1996 года компания занимается исследованиями и разработками в области оптики и фотоники. Основными направлениями компании являются: оптика, поляризационная оптика, лазерные и нелинейные кристаллы, оптомеханика.

Thorlabs

Thorlabs

Thorlabs Inc (Thorlabs) (CША) – компания специализируется на конструировании лазерных и волоконно-оптических систем. Производственные возможности Thorlabs позволяют обеспечить рынок высококачественными компонентами и устройствами: от оптико-механических компонентов до измерительного оборудования для телекоммуникаций.